■ 기업 개요
① 펠리클 사업부
→ 반도체 펠리클 - 반도체 Device 제조 시 Photolithography(노광식각)공정에서
Photomask(반도체설계회로도)를 이물질로부터 보호하기 위해 사용되는 소재를 생산
→ FPD 펠리클 - TFT-FPD나 Color Filter기판의 제조 시 마스크 위에 그려져 있는 패턴을 외부의 이물질로부터 보호하기 위해 사용되는 소재를 생산
② TCU사업부
반도체, 디스플레이 공정에서 필요로 하는
Chamber 내의 Process 온도와 Wafer의 주변 온도를 일정하게 유지함으로써
공정효율을 개선하는 반도체 공정장비 생산 및 품질보증기간 경과 후의 AS용역 등을 제고
③솔루션사업부
Solutions 사업부의 사업 영역은 미국, 유럽, 아시아의 다수의 반도체 부품회사들과 전략적 제휴를 통하여
센서반도체, 전력전자반도체, LED 등을 관련 산업(휴대폰, FPD TV, FPD패널, 모니터, 셋탑박스, 가전제품, Computer, 통신 Network, 자동차 등)에 기술지원, 영업 및 마케팅을 제공
간단 요약:
①반도체& 디스플레이 포토(노광) 공정에서 마스크를 보호하기 위한 펠리클 생산 및 판매
②식각-에칭-증착 등의 공정에서 온도를 일정하게 유지시켜주는 칠러 장비를 주력 생산
▶펠리클
포토마스크에 붙은 이물질의 영향 최소화 → 수율 증가
이물질로부터 포토마스크 보호해 세척 비용 감소, 세척 시간 절약시켜준다.
삼성전자 내 펠리클 점유율 80% 이상 차지
ArF(불화아르곤) , Krf (불화크립톤) 두 가지 종류이며 비중은 7:3
내구성과 투과율을 높인 고스펙의 ArF(불화아르곤) 비중을 늘리는 중
SK하이닉스 내 점유율은 35% 내외
아직 일본산 비중이 높지만 국산화 추이로 점유율 증가 기대 가능
디스플레이용 펠리클도 생산
LG 이노텍과 LG디스플레이가 주 고객사
OLED 신규 투자와 함께 펠리클 사용량 증가하고 있다.
삼성디스플레이에도 일부 납품 중
▶칠러
웨이퍼나 주변 온도를 일정하게 유지함으로써 공정 효율 개선하는 장비
■ 에프에스티 EUV 포트폴리오
▶EUV Pellicle
EUV Pellicle(400w~600w) 24년 양산 목표 연구개발 중이다.
EUVP 광학적 특성 평가 가능한 PTRT 설비를 국내에서 유일하게 보유하고 있다.
이미 여러 반도체 회사에서 EUV 장비를 데모 장비 혹은 연구 라인 등에 납품한 이력 존재 (레퍼런스)
EUV 용 펠리클 가격은 장당 2~3천만원 형성될 것으로 전망
투과율 90% 이상을 고객사에서 요구하고 있다.
국내에서는 에스앤에스택, 에프에스티가 개발 중
에스앤에스택은 단결정 실리콘 소재 기반으로 개발 중이다.
열에 취약하다는 것이 단점이 있다.
에프에스티는 SiC(실리콘카바이드) 기반으로 개발 중이다.
강도에서 경쟁우위에 있지만 주름(?) 문제가 있다고 한다.
(AMSL EUV 펠리클 또한 SiC 기반)
▶EUV Source(광원)
고차 조화파 (High Harmonic Generation) EUV
: Laser를 이용해 Coherence(일관성)가 높은 EUV 파장(13.5nm)의 광을 형성. EUV 검사 및 계측 설비 광원으로 활용
▶EUV 장비
① EUV Pellicle Mounter & Demounter (EPMD)
→노광 공정 전 EUV Pellicle을 EUV 마스크에 자동으로 탈/부착하는 자동화 설비
→EPMD는 ASML의 요청으로 ASML과 공동으로 개발
② EUV Pellicle Inspection System(EPIS)
→EUV Pellicle의 Membrane(막)과 Frame의 이물을 optical 방식으로 검사하는 장비
③ EUV Pod Inspection System(EPODIS)
→EUV용 마스크 Case인 Dual Pod 검사하는 장비
발생주식: 21,756,789주
자사주: 2,160,337
유통주식수= 발행주식-자기주식수= 19,596,452
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